國內外的潔淨技術的發展都是隨著科學技術的發展、工業產品的日新月異，特別是軍事工業、航天、電子和生物醫藥等工業的發展而不斷發展。現代工業產品生產和現代化科學實驗活動要求微型化、精密化、高純度、高質量和高可靠性。微型化的產品如電子計算機，從當初的要在數間房間內配置數台設備組合發展到現在的筆記本電腦，它所使用的電子元器件從電子管到半導體分離器件到集成電路再到超大規模集成電路，僅集成電路的現寬已從幾微米發展到現今的0.1μm左右。以集成電路的微型化為例，它對空氣中受控粒子粒徑從0.3~0.5μm的要求發展到空氣中受控粒子的粒子尺寸要求控製在0.05μm甚至更小，可見各類工業產品的微型化正不斷對潔淨技術提出更嚴格的要求。高純度的產品，如生產集成電路所需單晶矽材料，生產光釺所需四氯化矽、四氯化鍺材料已由過去的所謂高純進入“電子純”、“超純”，隻有達到如此高的純度才能達到現代集成電路、電子元器件、光釺產品所需的技術特性。要生產如此高純度的產品，就必須達到相應的受控生產環境的空氣潔淨度等級和具有相應高純度的與產品直接接觸的超純水，超純氣體、超純試劑等。對於現今以“微型電腦”為手段的電子信息時代，產品的高質量、高可靠性的重要意義是不言而喻的；對於確保人生安全的滅菌操作以及對於現代基因工程和金芯片的製作也具有特殊的意義。基於這種趨勢潔淨技術的發展與現代工業生產和科學實驗活動不可缺少的重要標誌之一。
20世紀60年代的潔淨技術在美國、歐洲等發達國家順應各行各業產品生產和科學實驗活動的需要得到了廣泛應用，可以認為是潔淨技術的大發展時期。美國在1961年誕生了國際上最少的捷徑是標準係美國空軍技術條令203，並把編製聯邦政府給的任務交給了原子能委員會的出版機構；1963年底頒布了第一個軍用部分的聯邦標準即FS-杠209,從此聯邦標準“209”就成為國際通行的著名的潔淨室標準;1966年頒布了修訂後的FS—209A。1957年蘇聯第一顆人造衛星上天後，美國政府加速發展宇航事業、精密機械加工和電子工業，這些都要求具有受控空氣潔淨的生產環境，從而帶動潔淨技術及其設備製造的大發展，1961年單向流潔淨技術和100級潔淨室的建立，更促進了潔淨技術的進一步發展。我國的潔淨室技術開始於20世紀60年代初，在70年代電子工業潔淨室特別是半導體集成電路用潔淨室的設計、建造發展很快，相繼建成一批潔淨廠房，並研製成功100級單向流潔淨室；與此同時，潔淨廠房用設備和材料，如高效過濾器、潔淨工作台、層流罩、潔淨烘箱、空氣吹淋室、 淨化型傳遞窗等相繼研製成功，並投入生產，雖然製造質量和某些技術指標與國際水平尚有差距，但已能滿足國內部分需求。由高效過濾器、淨化設備和維護結構（牆板、頂棚、地麵）組裝完成的裝配室潔淨室研製成功。到20世紀70年代末我國潔淨室設計、建造和潔淨技術的發展走向成熟階段。